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15720490226半导体制造行业废气净化设备安装
半导体产业中主要成分为异丙醇、光刻胶等有机物，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。
在某半导体企业的废气除臭设备的设计安装中我公司采用了光解除臭设备其脱臭效率可99%，脱臭效果大大超过1993年颁布的恶臭物质排放标准（GB14554-93），能处理氨、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、二甲基二硫醚等高浓度混合气体，内部光源可使用三年，设备寿命在十年以上，净化技术可靠且非常稳定，净化设备无须日常维护，只需接通电源即可正常使用，且运行成本低，无二次污染。
采用吸附工艺技术，如何使用吸附工艺技术处理半导体废气？
吸附是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体，使其中所含的一种或多种组分吸附于固体表面上，达到分离的目的。吸附剂选择性高，能分开其他过程难以分开的混合物，有效地清除（或回收）浓度很低的有害物质，净化效率高，设备简单，操作方便，且能实现自动控制。
半导体酸废气处理通常采用废碱液体喷淋法，又称化学洗涤法。对于含有酸性/碱性物质的废气 ，半导体厂封闭车间大都采用大型废气净化塔进行废气处理。
沸石转轮吸附浓缩装置
沸石转轮吸附浓缩装置主要用于有机废气的治理， 特别适合于大风量，低浓度场合。
TO直燃炉(催化燃烧装置)：对大风量、低浓度的VOCs废气，TO直燃炉一般会搭配沸石转轮使用。
在很多半导体企业单一的废气净化设备已经不能够解决其问题，就延伸出来组合式的废气处理工艺，目前在市场上，工业废气处理主要采用的是焚烧或者是吸附的方法，还有一种少见的热氧化法，但是由于废气中的有机物会被氧化掉，所以只有在大流量、低浓度的气体的情况下使用该方法。
更多关于半导体企业废气处理设备的设计安装方案可以咨询我公司技术人员。
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